Target Sputtering Zirkonium Murni Kepadatan Rendah Sifat Termal Yang Baik

kemurnian tinggi 99,95% kustomisasi bahan pelapis target sputtering zirkonium

ZirkoniumDeskripsi

Paduan zirkonium dan zirkonium memiliki kepadatan rendah, kekuatan spesifik tinggi, ketahanan korosi, ketahanan radiasi, ketahanan aus yang sangat baik, kinerja pemrosesan yang sangat baik, tidak beracun, non-magnetik, dibandingkan dengan baja tahan karat tradisional, tembaga, nikel, titanium dan paduan logam lainnya, zirkonium dan paduan zirkonium memiliki ketahanan korosi yang sangat baik, yang dapat menahan korosi sebagian besar asam organik, asam anorganik, basa kuat dan beberapa garam cair.Dalam pengolahan air limbah, pengolahan makanan, industri produksi asam kuat, ini terutama digunakan dalam peralatan dan komponen dengan persyaratan tinggi untuk ketahanan korosi, seperti reaktor, pompa tahan asam, pompa panas, pipa pertukaran panas, tangki perendaman,
impeller tahan asam, katup, agitator, Nozel dan lapisan wadah.Peralatan dan perangkat zirkonium yang digunakan oleh perusahaan kimia Amerika telah digunakan selama lebih dari 25 tahun tanpa kerusakan korosi yang jelas.Dalam proses korosi eksplorasi laut dalam, paduan zirkonium tidak hanya dapat menahan erosi air laut dan pasir serta gesekan dan keausan fluida, Tetapi juga beradaptasi dengan lingkungan suhu bolak-balik -200 ~ 200. Hal ini disebabkan oleh suhu rendah koefisien ekspansi zirkonium, yang dapat digunakan secara stabil dan terus menerus.

Pengenalan target

Pelapisan oleh bahan target sputtering magnetron tial atau jenis lain dari sistem deposisi sputter dalam kondisi teknis yang sesuai dalam berbagai film tipis fungsional yang terbentuk pada sumber sputtering substrat sederhana, adalah tujuan dari kecepatan tinggi yang dapat mengisi partikel yang membombardir bahan target material, digunakan dalam senjata laser energi tinggi, panjang gelombang gelombang keluaran kepadatan daya yang berbeda dari interaksi laser dengan bahan target yang berbeda, dapat menghasilkan efek kerusakan yang berbeda Misalnya: deposisi sputtering magnetron penguapan adalah pemanasan pelapisan penguapan membran aluminium seperti penggantian bahan target yang berbeda (seperti aluminium tembaga stainless steel, target nikel titanium, dll.), Bisa mendapatkan sistem film yang berbeda (seperti film paduan Anti korosi yang tahan aus, dll.)

angkutan bisa dinegosiasikan

ukuran menyesuaikan berdasarkan gambar drawing

Aplikasi: Terutama digunakan dalam semikonduktor, elektronik, medis, kristal cair, fotovoltaik dan bidang pelapisan lainnya other